TSMC не будет полагаться на сканеры High-NA EUV при работе с 1.6-нм техпроцессом

Вчера TSMC рассказала о работе над технологической нормой A16 или 1.6 нм, однако некоторые подробности были озвучены после первоначального доклада. Например, представители компании подтвердили отказ от сканеров High-NA EUV для создания полупроводников на будущем техпроцессе.

High-NA EUV позволяет выполнять меньше операций при создании полупроводников, повышая урожайность и скорость выполнения заказов, вот только за сканеры с поддержкой такой литографии необходимо платить почти $400 миллионов, чем TSMC заниматься не собирается, ведь это неминуемо скажется на стоимости заказов далеко не в положительную сторону.

По словам представителей, компании удалось найти способы обойтись без самых навороченных сканеров, в отличие от Intel, но это не значит, что TSMC откажется от High-NA EUV в будущем: уже сейчас она изучает возможность применения новой литографии в случае технологического процесса А14 или 1.4 нм.